真空电弧镀膜等离子体参数的测量  

MEASUREMENT OF PLASMA PARAMETERS IN VACUUM ARC DEPOSITION

作　　者：邹积岩[1] 杨磊[1] 程仲元[1] 张汉明 

机构地区：[1]华中理工大学电力系,武汉430074

出　　处：《微细加工技术》1997年第1期70-75,共6页Microfabrication Technology

基　　金：国家自然科学基金!59577005

摘　　要：本文介绍了真空电弧镀膜（VAD）环境下用法拉第杯分析等离子参数的实验系统。利用该系统，着重测量了气压、电流等参数对离子能量的影响，以及离子能量在固定位置的角分布。由测量结果，讨论了VAD中的复合离子参数值（Ep），在100A、0．66Pa、偏压-100V下，典型的最大离子能量为75eV，到达工件Ep值为8286V／atom。The experimental system for measuring plasma parameters in vacuum arc deposi-tion by Faraday Cup is introduced. Using the system,the effects of gas pressure and current on ion energy arc measured. The angle distribution of ion energy at the fixed position is also measured.

关 键 词：真空电弧镀膜 等离子体 测量 

分 类 号：TN305.8[电子电信—物理电子学]