真空电弧镀膜

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阳极真空电弧镀膜方法及其应用
《真空与低温》1997年第4期228-231,共4页王浩 
介绍了阳极真空电弧镀膜方法的镀膜装置、工作原理及电弧等离子体微观过程。就其应用前景进行了展望。
关键词：真空镀膜 阳极电弧 真空电弧镀膜 
激光触发真空电弧镀膜方法及其应用被引量：3
《电加工》1997年第2期29-31,共3页王浩 
介绍了一种新的表面处理方法——激光触发真空电弧镀膜技术。针对典型的镀膜装置,描述了其结构组成,分析了基本工作原理和过程,并就其应用进行了论述与展望。
关键词：激光 真空电弧镀膜 表面处理 镀膜 VAC 
磁场中真空电弧液滴喷溅分析
《真空电器技术》1997年第1期2-6,共5页王浩 邹积岩 
分析了在外加磁场作用下，真空电弧镀膜中阴极靶面液池的受力情况，导出了液滴喷溅特性受磁场影响的关系式。结果表明，纵向磁场将使喷溅方向发生偏转，形成一发射角，液池所在位置不同发射角也不同。一维横向磁场将使液池发生偏心喷溅...
关键词：磁场 真空电弧镀膜 液滴喷溅 
真空电弧镀膜等离子体参数的测量
《微细加工技术》1997年第1期70-75,共6页邹积岩 杨磊 程仲元 张汉明 
国家自然科学基金!59577005
本文介绍了真空电弧镀膜（VAD）环境下用法拉第杯分析等离子参数的实验系统。利用该系统，着重测量了气压、电流等参数对离子能量的影响，以及离子能量在固定位置的角分布。由测量结果，讨论了VAD中的复合离子参数值（Ep），在100A、0．...
关键词：真空电弧镀膜 等离子体 测量 
朗谬尔探针用于VAC等离子体诊断的初步研究被引量：5
《应用科学学报》1996年第4期475-480,共6页程仲元 邹积岩 杨磊 张汉明 
简要分析了朗谬尔（Ｌａｎｇｍｕｉｒ）探针用于真空电弧镀膜（ＶＡＣ）等离子体诊断的可行性及理论适用性问题．介绍了一种可用于ＶＡＣ等离子体在线监测的探针诊断系统，并利用此系统分析了不同工艺参数下等离子体参数的变化．
关键词：等离子体诊断 朗谬尔探针 真空电弧镀膜 
真空电弧镀膜中金属液滴的热过程研究
《微细加工技术》1996年第4期38-42,共5页程仲元 邹积岩 
本文建立了真空电弧镀膜中液滴热过程的理论模型，求解了沉积ＴｉＮ膜过程中液滴的温度与粒径变化。计算表明，液滴在飞行过程中温度和粒径不断减小；粒径较小的液滴温度降低较大，甚至可能发生凝固。计算实例能较好解释早期ＴｉＮ膜的...
关键词：真空电弧镀膜 金属液滴 热过程 半导体器件 
磁场中真空电弧液滴喷溅分析被引量：1
《华中理工大学学报》1995年第10期26-30,共5页王浩 邹积岩 程礼椿 林金铭 
国家教委留学回国人员资助项目
分析了在外加磁场作用下，真空电弧镀膜中阴极靶面液池的受力情况，导出了液滴喷溅特性受磁场影响的关系式。结果表明，纵向磁场将使喷溅方向发生偏转，形成一发射角，液池所在位置不同发射角也不同。一维横向磁场将使液池发生偏心喷溅...
关键词：磁场 真空电弧镀膜 液滴喷溅 镀层 质量 
用于真空电弧涂镀中的静电探针诊断装置被引量：6
《微细加工技术》1995年第3期63-67,共5页杨磊 邹积岩 程仲元 张汉明 
本文介绍了一套能准确诊断真空电弧等离子体参数的Ｌａｎｇｍｕｉｒ探针系统。测得典型参数：电子温度０．６－０．７ｅＶ，等离子体电位２Ｖ，电子浓度２×１０￣（１５）／ｍ￣３。该装置可用于自动监控成膜过程。
关键词：静电探针 真空电弧镀膜 真空镀膜 诊断装置 
真空电弧镀膜中等离子体参数的实验研究被引量：1
《电工技术学报》1995年第1期67-70,47,共5页王浩 韦伦布 邹积岩 程札椿 
国家教委回国人员基金
本文运用Ｌａｎｓｍｕｉｒ静电探针技术，对真空电弧镀膜过程中，基片鞘层附近区域的电子能量电子密度值及其受基片偏压影响而改变的关系进行了实验测量。结果表明，在环境压力为５．３２Ｐａ电弧电流为７５Ａ，进行钛金属薄膜沉积时，...
关键词：真空电弧 真空镀膜 等离子体 参数 
真空电弧镀DZ22合金NiCrAlY涂层性能研究被引量：1
《材料工程》1994年第12期18-20,14,共4页吴凤筠 
真空电弧镀ＤＺ２２合金ＮｉＣｒＡｌＹ涂层性能研究北京航空材料研究所吴凤筠一、前言真空电弧镀膜设备Ａ１０００采用电弧放电直接蒸发镀膜材料制成的阴极靶，与同类型镀膜设备一样有如下特点：ａ．金属阴极蒸发源不熔化；ｂ．由磁场...
关键词：镀膜 真空电弧镀膜 涂层 合金 力学性质 
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