磁场中真空电弧液滴喷溅分析  

作　　者：王浩[1] 邹积岩[1] 

机构地区：[1]华中理工大学

出　　处：《真空电器技术》1997年第1期2-6,共5页

摘　　要：分析了在外加磁场作用下，真空电弧镀膜中阴极靶面液池的受力情况，导出了液滴喷溅特性受磁场影响的关系式。结果表明，纵向磁场将使喷溅方向发生偏转，形成一发射角，液池所在位置不同发射角也不同。一维横向磁场将使液池发生偏心喷溅，加剧了液滴的发射；二维横向磁场则可减轻液池的喷溅。

关 键 词：磁场 真空电弧镀膜 液滴喷溅 

分 类 号：TB43[一般工业技术]