利用ECR等离子体辅助的rf溅射沉积氧化膜  

作　　者：甘德昌 

出　　处：《等离子体应用技术快报》1997年第4期18-19,共2页

关 键 词：ECR 等离子体 氧化膜沉积 射频溅射 薄膜 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]