压印光刻中模具空间位姿的识别及仿真  

Identification and Simulation of Template Spatial Position in Nanoimprint Lithography Process

作　　者：蒋维涛[1] 丁玉成[1] 卢秉恒[1] 刘红忠[1] 

机构地区：[1]西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,西安710049

出　　处：《西安交通大学学报》2007年第1期55-58,共4页Journal of Xi'an Jiaotong University

基　　金：国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716203);国家自然科学基金资助项目(50505037);中国博士后科学基金资助项目(2005037242)

摘　　要：在纳米压印光刻中,为了减小模具与晶片的平行度误差,将精对正光栅标记的相对误差校正到半栅距范围之内,并建立了点光源映射的数学模型,对模具空间位姿的投影进行图像识别.在算法设计的基础上,建立了纳米压印光刻系统中的粗对正系统及其控制流程,通过仿真计算,可以将模型的转角计算精度控制在10-6rad以下,位置偏移量计算精度控制在1 nm以下,所建立的粗对正系统的检测精度可达到1μm以下,因此满足了压印光刻中下一步精对正系统的要求.In nanoimprint lithography, to reduce the error of parallelism between the template and the substrate, and adjust the relative error between the grating marks for precise alignment to half of the grating distance, a mathematic model for spot lamp-house mapping is established to identify the image of the template projection. Based on the algorithm, a coarse-alignment system and the corresponding control process are designed. Via the simulation, the calculating accuracy for the rotate angle can be controlled below 10^-6 rad, for offset below 1 nm. Thus the precision of the coarse-alignment system gets below 1μm to meet the requirement of the next precise alignment.

关 键 词：纳米压印 点光源映射 粗对正 

分 类 号：TH112[机械工程—机械设计及理论] TH113.1