Si^+和Ti^+注入H13钢注入层微观结构的研究  

MICROSTRUCTURE OF IMPLANTED LAYER OF H13 STEEL AFTER Si AND Ti ion implantation

作　　者：李永良[1] 林文廉[2] 丁晓纪[2] 

机构地区：[1]北京师范大学分析测试中心,北京100875 [2]北京师范大学低能核物理研究所,北京100875

出　　处：《北京师范大学学报（自然科学版）》1997年第2期201-203,共3页Journal of Beijing Normal University(Natural Science)

基　　金：国家"八六三"高科技计划资助!863-715-23-02-01

摘　　要：利用透射电子显微镜，分析了Si+（100keV，5×1017cm-2）和Ti+（100keV，3×1017cm-2）注入H13钢注入层微观结构的变化．结果表明，离子注入后板条状马氏体结构完全消失，Si+注入导致注入层晶粒细化，而Ti+注入导致注入层非晶化．The microstructure of implanted layer of H13 steel after Si and Ti ion implantation was studied. With Si ion implantation, the implanted layer is microcrystal. With Ti ion implantation, the implanted layer is amorphous.

关 键 词：离子注入 微观结构 注入层 硅 钢 H13钢 

分 类 号：TG156.8[金属学及工艺—热处理] TG174.445[金属学及工艺—金属学]