MOCVD工艺中源材料用量计算方法  

Calculating Method of Used MO and Gas Sources in MOCVD Process

作　　者：胡晓宇[1] 何华云[1] 王慧勇[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙410111

出　　处：《电子工业专用设备》2007年第10期56-60,共5页Equipment for Electronic Products Manufacturing

基　　金：电子信息产业发展基金项目。

摘　　要：介绍了MO源和气态源实际用量的计算原理与方法,并在中国电子科技集团公司第四十八研究所研制的MOCVD设备中应用;提出了提高MO源利用率、降低工艺成本的三项措施。The calculating principle and method of used MO and gas sources is introduced and implemented in the MOCVD systems developed by the 48th Research Institute of CETC. Three methods on improving the utilization ratio of MO sources and reducing process cost are presented.

关 键 词：MOCVD 斜率 恒温浴槽 MO源 利用率 反应器 

分 类 号：TN304.02[电子电信—物理电子学]