TiAl合金的电子束蒸发行为  被引量:1

The Electron Beam Evaporation Behaviors of TiAl Alloys

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作  者:曾岗[1] 李明伟[1] 张庆茂[2] 赫晓东[3] 韩杰才[3] 

机构地区:[1]哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江哈尔滨150001 [2]成都飞机设计研究所,四川成都610041 [3]哈尔滨工业大学复合材料研究所,黑龙江哈尔滨150001

出  处:《稀有金属材料与工程》2007年第10期1759-1762,共4页Rare Metal Materials and Engineering

基  金:总装备部预研基金项目(51418040304HT0114)

摘  要:建立了TiAl合金蒸发和沉积数学模型,采用活度系数体现溶池中不同组元的相互作用,影响组元蒸发速率的因素主要有元素饱和蒸气压和活度系数,计算值与试验值符合良好。研究结果表明,TiAl合金可以采用底部连续进给单一水冷铜坩埚通过电子束物理气相沉积得到。A mathematical model for the calculation of TiAl alloy evaporation and deposition was developed. The activity coefficients of the elements represent the interaction between the components in the liquid pool. It is found that the main parameters affecting the evaporation rate include the activity coefficients and saturation vapor pressures of the elements. Experimental data are coincided with calculated data well. The results show that TiAl alloy can be deposited using the so-called single-crucible consisting of a water-cooled copper crucible with the base material being fed continuously through the bottom of the crucible.

关 键 词:电子束物理气相沉积 TIAL 蒸发 活度系数 饱和蒸气压 

分 类 号:TG146.23[一般工业技术—材料科学与工程]

 

参考文献:

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