离子束增强沉积合成ZrN/W纳米多层膜  

作　　者：李德军[1] 张晶晶[1] 邓湘云[1] 王明霞[1] 

机构地区：[1]天津师范大学物理与电子信息学院,天津300000

出　　处：《中国科学（E辑）》2007年第11期1455-1460,共6页Science in China(Series E)

基　　金：天津市科技计划国际合作项目(批准号:07ZCGHHZ01500);国家自然科学基金项目(批准号:50472026)资助

摘　　要：利用离子束增强沉积方法在室温和不同能量的氮离子轰击条件下制备了不同调制周期的ZrN／W纳米多层膜．利用XRD，AES和纳米压痕仪分析了调制周期和离子轰击能量对薄膜结构和机械性能的影响，结果表明多层膜的机械性能基本都优于单质的ZrN或W薄膜．和其他制备条件相比，在300eV能量的氮离子轰击下制备的调制周期为8-9nm的多层膜，其结构中出现了强的ZrN（111），W（110）和ZrN（220）织构的混合，它的硬度和弹性模量分别达到26和310GPa，也展示了较高的耐磨性．

关 键 词：离子束增强沉积 ZrN/W 多层膜 纳米尺度 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]