多弧离子镀TiAlN涂层熔滴工艺参数的影响  

Influence of Technical Parameters on Droplets of TiAIN Coating Deposited by Multi-arc Ion Plating

作　　者：毛延发[1] 宫永辉[2] 杨琳 韩培刚 兰新哲[1] 周廉[1] 

机构地区：[1]西安建筑科技大学,陕西西安710003 [2]深圳大学,广东深圳518060 [3]深圳市广大纳米工程技术有限公司,广东深圳518172

出　　处：《内蒙古民族大学学报（自然科学版）》2007年第5期514-517,共4页Journal of Inner Mongolia Minzu University：Natural Sciences

基　　金：深圳大学科研启动基金项目(200536)

摘　　要：综合介绍了多弧离子镀TiAlN涂层熔滴颗粒产生的原因,探讨了N2分压和脉冲偏压对熔滴形成的影响.结果表明,TiAlN涂层中的熔滴颗粒密度和直径随N2分压和脉冲偏压峰值的提高而减小.The reasons of droplets formed during the multi - arc ion plating TiAIN coating are summarized also. The influences of N2 partial pressure and negative DC pulse - bias on droplets formation are discussed. The results shows that the density and diameter of droplets become lower with N2 pressure and pulse- bias increase.

关 键 词：TIALN 熔滴 N2分压 脉冲偏压 多弧离子镀 

分 类 号：TB43[一般工业技术]