MOCVD系统的气体流量自动控制研究  

The Gas Flow Automatic Control of MOCVD

作　　者：王涛[1] 高爱华[1] 张伟[1] 

机构地区：[1]西安工业大学光电工程学院,陕西西安710032

出　　处：《真空电子技术》2007年第1期56-58,共3页Vacuum Electronics

摘　　要：研究了金属有机物化学气相沉积(MOCVD)系统中气体流量的自动控制方法。研究分析了基于质量流量控制器、可编程序控制器和触摸屏的自动控制系统气体流量自动控制方法。该方法提高了MOCVD系统的自动化控制水平,确保了工艺的重复性和稳定性,使得MOCVD系统气体流量控制水平有显著提高。The paper focused on the research of gas flow automatic control method of the MOCVD （Metal Organic Chemical Vapor Deposition）. The MOCVD system is specifically introduced, and the gas flow automatic control method based on the mass flow controller （MFC） and programmable logic controller （PLC） is studied and analyzed. This method improves the automatic control level of MOCVD and ensures the repeatability and stability of the process, which significantly improves the level of the MOCVD gas flow automatic controlling system.

关 键 词：金属有机物化学气相沉积 质量流量控制器 可编程序控制器 触摸屏 

分 类 号：TP273[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]