磁控溅射沉积宽带减反膜  

作　　者：王明利[1] 龚辉[1] 范正修[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜技术中心,上海201800

出　　处：《科学通报》1997年第13期1381-1383,共3页Chinese Science Bulletin

摘　　要：早在1938年,美国就研制成功了多层减反膜,稍后在欧洲也取得了成功。减反膜在光学薄膜生产中处于非常重要的地位:照像物镜、眼镜片、望远镜、显微镜、测距仪等,几乎所有的光学仪器都采用了减反膜。目前减反膜的制备在技术上已经成熟,尤其是借助电子计算机,多层减反膜的膜系也变得十分完美。减反膜在制备方法上先后采用了电阻加热蒸发和电子枪蒸发法等。然而随着大批量减反膜的需求,提出了在室温下,大面积沉积减反膜的要求。由于磁控溅射能得到性能很稳定的光学薄膜,而且在室温下能进行大面积沉积,因此近年来受到广泛重视。本文介绍采用磁控溅射沉积多层宽带减反膜,研究了溅射系统、厚度监控。

关 键 词：宽带减反膜 磁控溅射沉积 光学薄膜 薄膜 

分 类 号：TH74[机械工程—光学工程] O484.1[机械工程—仪器科学与技术]