一种超光滑表面抛光装置的研制  

作　　者：叶梅[1] 叶虎年[1] 张思团[1] 

机构地区：[1]华中科技大学仪器系高教所,湖北武汉430074

出　　处：《实验室科学》2007年第3期139-141,共3页Laboratory Science

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.30170276;No.30627001;No.60672058)

摘　　要：针对“非探针超分辨光学显微镜”对光学元件表面提出的超光滑要求,发展了一种新颖的用于超光滑表面加工的经济装置。该装置为仅用一个单轴驱动工作盘,而随动聚四氟乙烯抛光盘的拟浴式抛光系统。加工件的原子力显微镜AFM测试结果表明该装置加工出的光学表面的粗糙度可优于1nmSq值,满足纳米分辨率光学测量系统对元件的要求及探测单个细胞或微生物样本时对载片的表面要求。

关 键 词：超光滑表面 超精密加工 拟浴式抛光 单轴驱动 浮置抛光盘 

分 类 号：G64[文化科学—高等教育学]