应用物理学  

出　　处：《中国学术期刊文摘》2008年第1期80-81,共2页Chinese Science Abstracts(Chinese Edition)

摘　　要：反de Sitter时空中的非拓扑孤立子；用反差确定电子束曝光剂量与刻蚀深度的关系；不锈钢管道低温溅射镀TiN薄膜技术；复摆实验装置研究；Nontopological solifons in anti de Sitter spacetimes;Determining relationship between electron-beam dose and etching depth by empirical formula of contrast;Technology of coating TiN film on inner face of stainless steel pipe by sputtering at low temperature;Duplicate pendulum test installation research.

关 键 词：应用物理学 SITTER时空 拓扑孤立子 不锈钢管道 刻蚀深度 曝光剂量 薄膜技术 实验装置 

分 类 号：O59[理学—应用物理] P145.8[理学—物理]