高选择渗透性硅膜及其特性  

A Silicon-Based Membrane with High Permeability and its Properties

作　　者：王树森[1] 曾美云[1] 王志忠[1] 张晓清 

机构地区：[1]北京工业大学化学与环境工程系,100022

出　　处：《北京工业大学学报》1997年第3期99-104,共6页Journal of Beijing University of Technology

基　　金：北京市自然科学基金资助项目

摘　　要：一种具有高选择渗透性的新型硅膜由硅树脂膜裂解制成。膜对Ｈ２，Ｏ２，Ｎ２等气体的渗透系数的１０＾２－１０＾３Ｂａｒｒｅｒ，Ｈ２／Ｎ２和ＯＮ２分离因子分别为１１－１３和３－４。这种硅基膜适合于代于３００℃的含氧环境下工业气体的分离。A new silicon-based membrane with high permeability was made by pyrolyzing a silicon resin membrane. Its permeability coefficients for H2, O2, N2 are about 102-103 Barter, separation factors for H2/N2 and O2/N2 are 11-13 and 3-4 respectively. This silicon membrane is suitable for industrial gas separation in an oxidizing environment at the temperature of below 300℃.

关 键 词：气体分离膜 硅膜 渗透系数 裂解 膜分离设备 

分 类 号：TQ051.893[化学工程]