End—Hall源沉积类金刚石膜的实验  

Experiments on Depositing Diamond-like-carbon by Using Source End-Hall

作　　者：洪伟[1] 赵友博[2] 张铁群[2] 

机构地区：[1]航天科工集团三院8358所,天津300092 [2]南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津300071

出　　处：《南开大学学报（自然科学版）》2008年第1期1-4,9,共5页Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Nankaiensis

基　　金：光电信息技术科学教育部重点实验室资助(2005-19)

摘　　要：介绍了采用 End-Hall 源沉积 DLC 膜的方法,在简单说明其工作原理的同时给出了实验的各项技术参数;通过对实验结果和 DLC 膜样品的分析,可看出用 End-Hall 源沉积方式能够消除 RFCVD 沉积方式所带来的边缘效应.A depositing method of Diamond-like-Carbon by using Source End-Hall was introduced. Experimental results and analyses on the deposited DLC coating samples demonstrated that the brim effects introduced by RFCVD can be removed by Source End-Hall deposition method.

关 键 词：类金刚石膜 End—Hall源 射频等离子放电沉积 边缘效应 

分 类 号：O436.1[机械工程—光学工程]