化学气相沉积制备铂族金属涂层及难熔金属  被引量:4

Chemical Vapor Deposition of Platinum Group Metals Coatings and Refractory Metals

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作  者:魏燕[1] 胡昌义[1] 王云[1] 欧阳远良[1] 陈力[1] 蔡宏中[1] 

机构地区:[1]昆明贵金属研究所,云南昆明650106

出  处:《贵金属》2008年第2期62-66,共5页Precious Metals

基  金:云南省自然科学基金资助项目(2004E0064M)

摘  要:综述了化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)技术制备高温抗氧化涂层—铂族金属(Pt、Ir)涂层及难熔金属(W、Mo、Ta、Nb、Re)的方法。并对部分有报道的沉积参数以及沉积参数对沉积层结构及性质的影响进行了介绍。An introduction has been given to the methods and procedures of chemical vapor deposition (CVD) of platinum group metals(Pt,Ir) coatings, which are used as the high temperature oxidation resistant coatings, and refractory metals( W, Mo,Ta, Nb, Re). Some reported technical parameters and their effects on the deposition were als.o introduced.

关 键 词:金属材料 铂族金属薄膜 难熔金属 制备 化学气相沉积 

分 类 号:O614.82[理学—无机化学]

 

参考文献:

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