Sematech召开论坛讨论下一代光刻技术 设备成本将达4000万美元  

出　　处：《电子工业专用设备》2008年第5期49-49,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：据EETimes报道：Sematech正计划于2008年5月12～14日召开为期3天的光刻论坛，讨论32nm向22nm转变时该选择何种技术。Sematech表示，这次会议旨在汇集业界的观点，并希望能在下一代光刻技术方面达成一致。该会议将对外开放，预定在Lake George，New York举行。

关 键 词：下一代光刻技术 设备成本 论坛 美元 对外开放 NEW 会议 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] F827.12[经济管理—财政学]