三维神经微电极阵列新制作技术研究  

Study on a New Way to Fabricate 3D Neuron Microelectrode Array

作　　者：吕尊实[1] 周嘉[1] 黄宜平[1] 是慧芳[2] 

机构地区：[1]复旦大学微电子学系专用集成电路及系统国家重点实验室,上海200433 [2]中国科学院上海技术物理研究所,上海200083

出　　处：《传感技术学报》2008年第4期553-555,共3页Chinese Journal of Sensors and Actuators

基　　金：国家自然科学基金资助项目(60476032);上海自然科学基金资助项目(05ZR14015)

摘　　要：尝试了一种低成本的三维微电极阵列微加工的新方法。玻璃划片形成的柱状阵列,经掩膜腐蚀后形成阳模板,再利用PDMS的微复制技术形成阴模板。利用阴模板进行电镀,可以得到三维微电极阵列。制作的铜电极阵列高度约180μm,为制作更长的神经微电极阵列打下了基础。We proposed a novel technology for fabrication of 3D neuron microelectrode arrays at low cost. Diced glass column were masked and etched to be a male mould. Through micro-replication technique, a female mould of Polydimethylsiloxane （PDMS） was obtained. A 3D microelectrode array was fabricated by electroplating utilizing the PDMS mould. The height of the copper electrode array was about 180 jura. This technology provided the basis for fabrication of longer neuron electrode array in the furture.

关 键 词：微加工 电镀 微电极阵列 PDMS(Polydimethylsiloxane 聚二甲基硅氧烷) 

分 类 号：TM930.5[电气工程—电力电子与电力传动]