Si基太阳电池用SiN_x∶H薄膜的研究进展  

Research Progress in SiN_x∶H Film for Silicon Solar Cells

作　　者：唐煜[1] 周春兰[1] 贾晓昀[2] 王文静[1] 

机构地区：[1]中国科学院电工研究所,北京100080 [2]北京交通大学光电子技术研究所,北京100044

出　　处：《材料导报（纳米与新材料专辑）》2008年第1期247-250,共4页

基　　金：国家863计划项目(2006AA04Z345)

摘　　要：SiN_x:H薄膜因为具有良好的减反射性质和钝化作用,在晶体硅太阳电池(单晶硅、多晶硅)的研究和生产中得到越来越广泛的应用。介绍了SiN_x:H薄膜在硅基太阳电池中的减反射和钝化作用,主要制备方法等研究现状,以及面临的问题和今后的研究趋势。SiNx： H film has been widely applied in the research and industry of silicon solar cells because of its excellent antireflection and passivation recently. This article provides an introduction to the fundamental properties and the present research status of SiNx： H film for industrial as well as laboratory-type silicon solar cells,and presents a review of existing problems and future prospective.

关 键 词：太阳电池SiNx: H钝化减反射 

分 类 号：TN305.2[电子电信—物理电子学]