强磁环境中基于光电技术的位置控制方法  

The Position Control Method Based on Photoelectric Technology under Strong Magnetic Interference Environment

作　　者：白光辉[1] 孟松鹤[1] 郭悦[1] 张沫[1] 金立君[2] 

机构地区：[1]哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,黑龙江哈尔滨150001 [2]大庆油田技术培训中心化机系,黑龙江大庆163254

出　　处：《压电与声光》2008年第4期487-488,491,共3页Piezoelectrics & Acoustooptics

基　　金：国家自然科学基金资助项目(10572044)

摘　　要：基于光电技术提出了一种能在强磁干扰环境中实现高精度位置补偿控制的方法,并开发了相应装置。通过实践证明,该装置在大于50 T的强磁干扰环境中稳定运行,其误差不超过0.15 mm,可被推广到其他要求位置控制的领域。Based on photoelectric technology, a new method is proposed for high precision position compensation control under strong magnetic interference. Relavent devices are developed, which testifies that the steady operating error is within 0.15 mm under the strong magnetic interference environment over 50 000 mT. The results can be extended to other fields concerning position control.

关 键 词：光电技术 强磁干扰 位置控制 

分 类 号：TP212[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]