脑皮层厚度分析方法及其应用  

Cortical thickness analysis method and its application

作　　者：吕彬[1] 何晖光[1] 吕科[2] 赵明昌[1] 张志强[3] 卢光明[3] 

机构地区：[1]中国科学院自动化研究所复杂系统与智能科学重点实验室,北京100190 [2]中国科学院研究生院,北京100049 [3]南京军区南京总医院医学影像科,江苏南京210002

出　　处：《中国医学影像技术》2008年第7期1130-1133,共4页Chinese Journal of Medical Imaging Technology

基　　金：国家自然科学基金面上项目(30670530,30670600);国家高技术研究发展计划(2007AA01Z327);国家自然科学基金创新群体项目资助(60621001);北京市科技新星计划(2007A094)

摘　　要：本文系统描述了脑皮层厚度测量的后处理步骤以及相应的统计分析方法,并就该方法在脑发育和相关疾病中的具体应用进行了深入的讨论。最后,指出脑皮层厚度测量与分析方法的研究意义与潜在局限性。In this paper, we introduce the analysis methods after the cortical thickness is measured, and its some application on normal development as well as neurodegenerative and psychiatric diseases. At last, we point out the research value and the potential limitation of the cortical thickness measurement.

关 键 词：图像处理 脑皮层厚度 计算解剖学 

分 类 号：R322-3[医药卫生—人体解剖和组织胚胎学] TP317.4[医药卫生—基础医学]