巴斯夫与赢创合作研发化学机械研磨（CMP）液  

出　　处：《现代塑料》2008年第8期12-12,共1页Plastics Technology

摘　　要：赢创和巴斯夫共同宣布，两家公司将共同合作发展二氧化铈研磨液，用以制造计算机芯片。预计，这种研磨液将在2009年实现商品化。

关 键 词：合作发展 化学机械研磨 巴斯夫 研发 计算机芯片 二氧化铈 研磨液 商品化 

分 类 号：TN405.96[电子电信—微电子学与固体电子学] F127[经济管理—世界经济]