STS与XACTIX合推新型大批量生产XeF2蚀刻设备  

出　　处：《电子工业专用设备》2008年第8期63-64,共2页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：Surface Technology Systems公司与XACTIX公司推出新的基于二氟化氙（XeF2）气体的Chemical Vapor Etch（CVE）设备。XACTIX与STS合作开发的突破性工艺腔体设计和改进的晶圆传递机制可保证高吞吐量、均匀性、效率及运行时间，从而使XeF2蚀刻成为可行的大批量生产工艺。

关 键 词：大批量生产 XEF2 STS 设备 蚀刻 SURFACE TECHNOLOGY Systems公司 生产工艺 

分 类 号：TN248.22[电子电信—物理电子学] TG659[金属学及工艺—金属切削加工及机床]