新的PACVD工艺  

作　　者：王惠仁 

出　　处：《等离子体应用技术快报》1997年第9期1-3,共3页

关 键 词：PACVD CVD 薄膜沉积 等离子体 

分 类 号：TB43[一般工业技术] O484.1[理学—固体物理]