高速偏放系统噪声抑制技术的研究  

Study on Noise Suppression Technology for High-speed Deflection Subsystem

作　　者：姚作宾[1] 张玉林[1] 魏守水[1] 

机构地区：[1]山东大学控制科学与工程学院电子束研究所,济南250061

出　　处：《微细加工技术》2008年第2期5-7,共3页Microfabrication Technology

摘　　要：为使亚微米电子束曝光机的高速偏放系统寻址率达到6 MHz,噪声小于200μV的技术指标,从偏转放大器的设计、信号传输、D/A转换和系统的屏蔽、隔离等几方面考虑,对噪声的产生进行分析研究,采取相应的处理措施、实现机制及实验结果,提出了具体的噪声抑制技术解决方法。进而可使整机系统的技术指标得到很好的提高和改进。这项研究对今后该项目的研制有一定的参考意义。To improve the resolution of submicron electron beam lithography system. Several noise absorbing technologies in designing its high-speed electronic deflection system are discussed and experimented. They are valid when the writing speed is under 6 MHz and the noise P-P value is restrained to 200 μV.the overall Performance of the submicron electron beam lithography systems is improved.

关 键 词：电子束曝光机 偏放系统 噪声抑制 光纤传输 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]