TiAlN硬质薄膜/涂层材料的研究进展  

Progress in Research on TiAlN Hard Thin Films/Coatings

作　　者：王目孔[1] 马瑞新[1] 林炜[1] 康勃[1] 吴中亮[1] 

机构地区：[1]北京科技大学冶金与生态工程学院,北京100083

出　　处：《硬质合金》2008年第3期186-191,共6页Cemented Carbides

摘　　要：概述了TiAlN硬质薄膜/涂层材料的基本性质、应用及制备技术的发展。介绍了国内外利用磁控溅射法(MS)、空心阴极离子镀(HCD)、多弧离子镀等镀膜工艺制备TiAlN硬质薄膜材料的最新研究进展。TiAlN薄膜应用于切削加工、航空、航天和模具中的优良性能。The basic properties,application prospects and fabrication methods of TiAIN thin films/coatings were described. Recent progresses in research TiAIN thin films in inside and outs/de,such as magnetron sputtering （MS）, cathode ion plating （HCD） and multi-are ion plating, were summarized. TiAIN thin films have good performances in applying machining, avigatian, spaceflight and dies.

关 键 词：TiAlN硬质薄膜 制备方法 性能 应用 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]