离子束溅射沉积作用下聚四氟乙烯膜的制备和结构分析  

Structure Analysis of Teflon Films Synthesized by Ion Beam Sputtering Deposition

在线阅读下载全文

作  者:王立铎[1] 贺小明[1] 李文治[1] 王英华[1] 李恒德[1] 

机构地区:[1]清华大学材料科学与工程系

出  处:《功能材料》1997年第6期660-661,655,共3页Journal of Functional Materials

摘  要:本文首先利用离子束溅射聚四氟乙烯靶材的方法制备了薄膜,进而研究了其结构。由XPS的结果可知,所得薄膜主要由CF2结构组成;由FTIR的结果可知,在1169cm-1和1083cm-1处出现了CF的最强吸收峰,在734cm-1,619cm-1和500cm-1处出现了聚四氟乙烯的特征吸收峰。XPS和FTIR的结果是一致的,所得薄膜呈现聚四氟乙烯的结构特征。Teflom thin films have been synthesized by ion beam sputtering teflon target and their structures have been studied by XPS and FTIR. XPS showed that the films mainly consisted of CF2 structure; FTIR indicated that the strongest absorption peak of CF appear at 1169cm-1 and 1083cm-1 and the characteristic absorption peak of teflon appeared at 734cm-1 ,619cm-1 and 500cm-1. The results of XPS and FTIR coincided with each other, the obtained films possessed the structural characteristic of teflon.

关 键 词:离子束溅射沉积 聚四氟乙烯 薄膜 

分 类 号:O484.1[理学—固体物理] TB43[理学—物理]

 

参考文献:

正在载入数据...

 

二级参考文献:

正在载入数据...

 

耦合文献:

正在载入数据...

 

引证文献:

正在载入数据...

 

二级引证文献:

正在载入数据...

 

同被引文献:

正在载入数据...

 

相关期刊文献:

正在载入数据...

相关的主题
相关的作者对象
相关的机构对象