离子束溅射沉积

作品数：50被引量：106H指数：5
导出分析报告
相关领域：理学一般工业技术更多>>
相关作者：范平刘洪祥张云洞熊胜明邵建达更多>>
相关机构：中国科学院深圳大学中国科学院上海光学精密机械研究所云南大学更多>>
相关期刊：《微细加工技术》《中国集成电路》《功能材料》《红外与毫米波学报》更多>>
相关基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划江苏省教委自然科学基金河南省高校杰出科研人才创新工程基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-10
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
离子束表面加工设备控制系统研究与设计
《电子工业专用设备》2024年第6期16-19,53,共5页范江华 黄一峻 周立平 周波 刘庆浩 胡坤 
通过研究离子束表面加工设备的功能要求和工艺流程,设计了一套具备全自动真空、控温、传片、镀膜、刻蚀等功能的控制系统,并详细阐述控制系统各模块的功能及设计实现。经过产线流片验证,该控制系统运行稳定,满足离子束加工设备镀膜与刻...
关键词：离子束溅射沉积 离子束刻蚀 离子束加工 控制系统 
离子束表面加工设备及工艺研究
《中国集成电路》2024年第9期87-91,共5页范江华 李勇 袁祖浩 龚俊 胡凡 黄也 
本文介绍了一种用于红外芯片金属化与刻蚀工艺的离子束表面加工设备。通过实验探索不同工艺角度下薄膜沉积速率与均匀性及刻蚀速率与均匀性的影响,结果表明薄膜沉积均匀性与刻蚀均匀性均优于3%。同时经过产线流片,红外芯片表面薄膜均匀...
关键词：离子束溅射沉积 离子束刻蚀 离子束加工 射频离子源 
锑化铟红外探测器的三维电极成型技术
《红外》2023年第6期7-11,共5页张泽群 龚志红 李忠贺 李乾 宁提 杨刚 
锑化铟的电极因三维特性易产生侧壁断裂问题,互联的铟柱会侵入电极内部,影响锑化铟芯片的可靠性。使用离子束溅射沉积、热蒸发、磁控溅射等方法制备三维电极体系,并通过聚焦离子束(Focused Ion Beam, FIB)方法以及扫描电子显微镜(Scanni...
关键词：锑化铟 三维电极体系 热蒸发 磁控溅射 离子束溅射沉积 
0.2nm带宽滤光片的制备以及退火温度对其形貌和性能的影响被引量：5
《光学学报》2021年第20期217-223,共7页王凯旋 陈刚 刘定权 马冲 张秋玉 高凌山 
上海市自然科学基金(17ZR1434900)。
近红外波长为1.064μm的激光是激光测距、自由空间光通信和空间光学遥感等应用中的主要激光光源之一。窄带滤光片是抑制背景光干扰的关键元件之一,目前大部分滤光片的半峰全宽为几纳米。本文研制了中心波长为(1064±0.05) nm、半峰全宽...
关键词：薄膜 亚纳米带宽滤光片 离子束溅射沉积 近红外波段 退火温度 
离子束溅射沉积Sm-Fe系薄膜的沉积速率计算
《质量技术监督研究》2021年第5期16-19,共4页刘凯 
文中首先介绍如何用离子束溅射沉积法(IBSD)在铍青铜基片上制备Sm-Fe/Fe多层膜,详细描述镀膜方案和镀膜过程。其次,利用推导出的公式计算得出薄膜的理论沉积速率,并与称重法测得的薄膜实际沉积速率进行对比。最后,分析理论计算值与实际...
关键词：Sm-Fe/Fe多层膜 沉积速率 
离子束溅射沉积设备制备薄膜均匀性研究被引量：2
《电子工业专用设备》2021年第4期35-39,共5页陈国钦 袁祖浩 胡凡 范江华 
针对离子束溅射沉积设备薄膜均匀性问题,采用理论分析计算和试验相结合的方法计算了薄膜厚度的分布差异,由此设计出修正板外形。实验结果表明,修正后的薄膜均匀性从32%提高到了1.7%。
关键词：离子束溅射沉积 薄膜 修正板 均匀性 
可见光和近红外双带通薄膜滤光片的光谱调控被引量：7
《红外与毫米波学报》2020年第6期791-795,共5页陈刚 刘定权 马冲 王凯旋 张莉 高凌山 
国家自然科学基金(61705248)。
空间对地观测的遥感相机中需要基于干涉薄膜的双光谱通道滤光片,在同一几何点上同时形成可见光(波长500~720 nm)和近红外(波长(1064±1)nm)两个光谱通道。这两个光谱通道的光谱位置和透射强度均需要进行精确控制。选用JGS-1石英玻璃作...
关键词：光学薄膜 双光谱通道滤光片 离子束溅射沉积 光谱控制 
双离子束溅射制备近红外窄带通滤光片的光谱和表面形貌被引量：5
《光学学报》2020年第21期206-212,共7页陈刚 刘定权 马冲 王凯旋 张莉 高凌山 
上海技术物理研究所创新基金(2019cx-272)。
为了观测大气层中的水汽含量以及CH4和CO2的浓度,在蓝宝石(Al2O3)基片上制备了两种窄带通滤光片,其中心波长分别为1375nm和1610nm,带宽分别为15nm和60nm,透过率均达到了95%。基于法布里-珀罗腔结构设计了带通滤光膜系,并对其进行了优化...
关键词：薄膜 离子束溅射沉积 窄带通滤光片 表面形貌 
基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究被引量：5
《光子学报》2019年第1期199-204,共6页冯时 付秀华 王大森 李晓静 聂凤明 张旭 
内蒙古自然科学基金(No.2017MS0539);宁波市自然科学基金(No.201601HJ-B01286)~~
针对大口径光学元件溅射沉积膜厚不均匀的问题,采用离子束溅射平坦化层来改善光学元件表面粗糙度.利用膜厚检测仪测出光学元件沉积面上的中心区域以及各边缘区域的膜厚值,计算离子束在光学元件中心与边缘驻留时间比,并通过MATLAB拟合驻...
关键词：薄膜 离子束溅射沉积 膜厚均匀性 大口径光学元件 驻留时间 
离子束溅射沉积—刻蚀作用下KDP晶体表面粗糙度研究被引量：1
《科技风》2018年第21期2-3,13,共3页王泉 刘卫国 周顺 
国防基础科研项目(JCKY2016208A002);陕西省教育厅重点实验室科研计划项目(编号:14JS027)
为了消除单点金刚石车削(SPDT)后KDP晶体表面留下的周期性小尺度波纹,文章探索采用离子束溅射沉积-刻蚀的方法对车削后KDP晶体进行抛光加工。本文主要分析了平坦化层材料的选择,溅射沉积工艺参数对KDP晶体平坦化层粗糙度的影响,并计算...
关键词：KDP晶体 离子束溅射沉积 离子束刻蚀 表面粗糙度 
全选清除导出
共5页<12345>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部