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作 者:黄永平[1]
出 处:《人工晶体学报》2008年第5期1145-1147,共3页Journal of Synthetic Crystals
基 金:宜宾学院青年基金资助课题(QJ05-10)
摘 要:基于晶体场理论,采用3d1离子在D2d对称中的晶场能级公式和EPR参量高阶微扰公式,计算了ThSiO4:V4+晶体的光谱和电子顺磁共振(EPR)参量g因子g∥,g⊥和超精细结构常数A∥,A⊥。计算结果与实验发现很好吻合。由于晶体中顺磁杂质中心的EPR参量与其缺陷结构密切相关,本计算还获得了V4+杂质中心缺陷结构的信息。对上述结果进行了讨论。On the basis of the crystal-field theory, the optical spectra and electron paramagnetic resonance parameters for V……4+ ions doped in ThSiO4 crystal in tetragonal (O2d) symmetry are theoretically investigated. The calculated values (optical spectra, g-factors g//,g⊥ and hyperfine structure constants A//, ,A⊥ ) show good agreement with the experimental data. Because of the consanguineous correlation between EPR parameters of paramagnetic ion center and the defect structure, the defect structure of the V^4+ center can be obtained by the calculation. The reasonableness of these results is discussed.
关 键 词:晶体场理论 电子顺磁共振参量 缺陷结构 ThSiO4:V^4+晶体
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