Altatech推出新型CVD、ALD设备  

出　　处：《电子工业专用设备》2008年第10期65-65,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：半导体设备商Altatech Semiconductor日前推出化学气相淀积和原子层淀积设备AltaCVD，但未透露其设备售价。

关 键 词：半导体设备 SEMICONDUCTOR CVD ALD 化学气相淀积 原子层 

分 类 号：TN929.53[电子电信—通信与信息系统] F407.63[电子电信—信息与通信工程]