高纯六氟化钨的分析方法综述  

Analytical Method of High Purity Tungsten Hexafluoride

作　　者：郑秋艳[1] 纪振红[1] 王占卫[1] 李翔宇[1] 

机构地区：[1]中国船舶重工集团公司第七一八研究所

出　　处：《舰船防化》2008年第5期20-24,共5页

摘　　要：本文介绍了六氟化钨的性质、应用及目前的发展状况，针对六氟化钨区别于其它电子气体的特殊性质，综述了对其中所含气体杂质和金属粒子的分析方法。六氟化钨中的气体杂质主要包括：四氟化碳、四氟化硅、二氧化碳、六氟化硫、氧气、氮气和一氧化碳，采用加反吹系统的气相色谱法进行分析；氟化氢杂质用傅立叶红外光谱进行分析；六氟化钨中的金属粒子主要有钙、钾、铁、铜和铬等，可以采用原子发射光谱法、原子吸收光谱法和电感耦合等离子质谱法进行测定：In this paper, we present tungsten hexafluoride＇s character, application and development at present. Due to the tungsten hexafluoride＇s special properties which are different from other electronic gases, we summarize the analytical methods of gaseous impurities and metallic particles in tungsten hexafluoride. The primary gaseous impurities are CF4, SiF4, CO2, SF6, O2, N2 and CO, and the analytic method employs gas chromatography with blow in reverse. The analysis of HF uses FTIR. The metallic particles in WF6 include Ca, K, Fe, Cu and Cr, all of which can be analysed by atomic emissive spectrum, atomic absorption spectrum and ICPMS.

关 键 词：六氟化钨 分析 气相色谱 傅立叶红外光谱 

分 类 号：TQ163.13[化学工程—高温制品工业]