检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]韩国三星电子株式会社
出 处:《表面技术》2008年第6期90-90,共1页Surface Technology
摘 要:本发明公开了一种形成金属薄膜的方法,包括:在对应于靶的区定位基底、靶包含银(Ag)并且提供于反应空间内、向反应空间内提供惰性气体和含氧气体。此外,所述方法还包括通过在靶和基底之间产生等离子体而在基底上形成含银(矩)导电膜。
关 键 词:金属薄膜 制造方法 显示面板 金属布线 图案 反应空间 含氧气体 惰性气体
分 类 号:TQ546.2[化学工程—煤化学工程] O484.1[理学—固体物理]
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