Mentor Graphics成功在上海举办EDA Tech Forum2008  

出　　处：《集成电路应用》2008年第10期12-12,共1页Application of IC

摘　　要：由Mentor Graphics举办的EDA Tech Forum 2008上海站日前成功举行，会上Mentor Graphics介绍了电子系统设计领域最先进的信息、公司完整的解决方案，工程师们与电子设计业界专家面对面互动交流，并通过现场实机展示，亲自体验了Mentor Graphics的最新产品。Mentor Graphics董事会主席、CEO Walden Rhines在主题演讲中表示，随着测试成本的增加，可测试设计在未来的IC设计活动中将具有突出地位，在设计工程师中会有25％为测试人员。

关 键 词：GRAPHICS EDA 上海站 电子系统设计 设计工程师 测试成本 Forum 互动交流 

分 类 号：TN402[电子电信—微电子学与固体电子学] TP311.13[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]