电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布  

作　　者：李帅辉[1] 舒勇华[1] 樊菁[1] 

机构地区：[1]中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室,北京100190

出　　处：《中国科学（E辑）》2008年第7期1106-1117,共12页Science in China(Series E)

基　　金：国家自然科学基金资助项目(批准号:90205024;10502051;10621202)

摘　　要：大面积薄膜的组分和厚度分布是实际工艺中最为关心的问题之一.利用实验和直接模拟Monte Carlo(DSMC)方法,分别研究了双电子束和三电子束物理气相沉积(EBPVD)中,钇和钛蒸气原子的三维低密度、非平衡射流,获得了它们在100和150mm单晶硅基片表面的沉积厚度和组分的分布.DSMC结果与钇和钛的蒸发速率的石英晶振探头原位测量值,沉积薄膜厚度分布的台阶仪和Rutherford背散射仪的测量数据,沉积薄膜组分分布的Rutherford背散射仪和电感耦合等离子体原子发射光谱仪测量值,均相符甚好.这表明通过DSMC方法与精细测量相结合,可在原子水平上实现EBPVD输运工艺的定量预测和设计。

关 键 词：电子束物理气相沉积 薄膜 厚度和组分分布 蒸气原子 非平衡输运 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]