用rf感应等离子体溅射制备氮化硼薄膜  

作　　者：朱笑非 

出　　处：《等离子体应用技术快报》1998年第4期9-10,共2页

关 键 词：射频溅射 等离子体 氮化硼 薄膜制备 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TG174.442[理学—物理]