立方氮化硼薄膜的最新研究进展  

Recent progress in cubic boron nitride film synthesis

作　　者：杨杭生[1] 聂安民[1] 张健英[1] 

机构地区：[1]浙江大学材料科学与工程学系,杭州310027

出　　处：《物理学报》2009年第2期1364-1370,共7页Acta Physica Sinica

基　　金：国家自然科学基金(批准号:50772096);浙江省自然科学基金(批准号:Y405051);浙江省教育厅(批准号:20061365);教育部留学回国人员科研启动经费(批准号:[2007]24号)资助的课题~~

摘　　要：立方氮化硼(cBN)作为一种在自然界中并不存在的人造材料具有优异的理化特性.在超硬刀具、高温电子器件和光学保护膜等领域有着广泛的应用前景,已经成为材料科学的研究热点之一.但是气相生长高质量cBN薄膜仍然还有许多难点需要攻克.在综述近几年cBN薄膜研究所取得的一些突破性进展后,结合研究现状提出今后可能的主要研究方向.Cubic boron nitride （cBN） thin films, as artificially prepared materials, have excellent mechanical, thermal, electronic and optical properties, thus have potentially significant technological applications in cutting tools, high-temperature electronic devices, and protective coatings for optical elements. Cubic BN films have attracted worldwide attention since the early 1980s; however, a numbers of difficulties hindered their applications. In this paper, recent important achievements in cBN film preparation are reviewed, and perspectives for future study of cubic boron nitride film are presented.

关 键 词：立方氮化硼薄膜 压缩应力 异质外延 掺杂 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TB331[理学—物理]