GH903合金的离子注入表面改性研究  

Investigation of surface modification of the ion-implanted GH903 alloy

作　　者：彭郁卿[1] 朱金元 翁惠民 

机构地区：[1]中国科学院上海原子核研究所,中国科学院核分析技术开放研究实验室,上海第五钢铁厂钢铁研究所,中国科学技术大学

出　　处：《核技术》1998年第1期1-6,共6页Nuclear Techniques

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：用离子注入、氧化和慢正电子束分析研究了ＧＨ９０３合金的氧化性能的改善与微观作用机理。注入的Ｃｒ＋．Ｙ＋的能量均为６０ｋｅＶ，注入的剂量分别由１ｘ１０１７．ｃｍ－２（Ｃｒ＋）、１ｘ１０１５Ｃｍ－２（Ｙ＋）和［１ｘ１０１５．ｃｍ－２（Ｙ＋）＋１ｘ１０１７·ｃｍ－２（Ｃｒ＋）］。结束显示，注入样品与未样品相比。氧化增重分别减少４．８％（注Ｃｒ＋）、２４．２％（注Ｙ＋）和３２．３％（注Ｙ＋＋Ｃｒ＋）。这表明合金氧化性能改善的作用机理主要是注入离子对样品浅表层内缺陷的填充与退火。同时，注入元素的化学性能和使样品表面更致密也起了重要作用。Improvement of oxidation properties of the ion-implanted GH903 alloy wasinvestigated by the slow positron beam analysis. Energy of Cr+ or Y+ ions was60keV and the implanted doses were 1×1015·cm-2(Y+),1×1017·cm-2(Cr+)and 1×1015·cm-2(Y+)+1×1017·cm-2(Cr+),respectively. Compared with the orginalsamples, the oxidizing weight-increment of the sample implanted by Cr+,Y+ and(Y++Cr+)ions were decreased 4.8%,24.2%and 32.3%, respectively.Mechenism ofthe modified oxidation is disscussed in terms of filling and annealing of defects in thenear-surface, chemical characteristics of the implanted elements and forming morecompact surface by ion implantation.

关 键 词：离子注入 慢正电子束分析 合金 表面改性 铬 

分 类 号：TG174.445[金属学及工艺—金属表面处理] TG156.88[金属学及工艺—金属学]