薄膜光学 光学薄膜参数测试  

出　　处：《中国光学》2005年第4期65-66,共2页Chinese Optics

摘　　要：O484．5 2005042898 采用喇曼散射和光热偏转谱法研究微晶硅薄膜结构= Structure study of microcrystalline silicon thin film using Raman scattering and photo thermal deflection spectra[刊, 中]／张晓丹(南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,光电信息技术科学教育部重点实验室,天津(300071)),赵颖…／／光电子·激光．-2005,16(2),-167-170 采用VHF-PECVD技术制备了不同结构的Si薄膜, 用喇曼(Raman)散射光谱和光热偏转谱(PDS)分别对材料的结构进行了研究。研究表明,Si薄膜的结构随温度的升高、功率的增大及H稀释的加大逐渐由非晶转变为微晶, 同喇曼谱相比,PDS也可粗略地估计材料的结构变化;

关 键 词：光电子 喇曼散射光谱 测试结果 折射率 光学薄膜 薄膜光学常数 南开大学 多孔阳极氧化铝 薄膜器件 喇曼谱 

分 类 号：O484.5[理学—固体物理]