氧化锌薄膜掺杂研究的新进展  

作　　者：赵谢群[1] 邱向东[1] 

机构地区：[1]北京有色金属研究总院603室,北京100088

出　　处：《中国有色金属学报》1998年第S2期206-209,共4页The Chinese Journal of Nonferrous Metals

摘　　要：综述了掺杂Al，Ga，In，Ge，Cu，Li和Pb等元素对ZnO薄膜的微结构及电、光、气敏等性质的影响。

关 键 词：ZNO薄膜 掺杂 性质 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]