光相干理论、干涉仪  

出　　处：《中国光学》1995年第1期8-11,共4页Chinese Optics

摘　　要：O436.1 95010052和型莫尔偏折术的探讨=On an additive type ofMoire deflectometry[刊,中]/杨坤涛,廖兆曙(华中理工大学光电子工程系),陶景光(华中理工大学微观分析中心)//华中理工大学学报.—1994,22(4).—101—104探讨了一种和型莫尔偏折术。将两组周期相同的干涉条纹同时投射到接收面上,让光强相加而得到莫尔条纹。分析了其原理,并用计算机进行了模拟。图4表1参3(许锦贤)O436.1 95010053用超微粒乳胶光刻高密度圆光栅=Photoetch

关 键 词：干涉仪 莫尔偏折术 华中理工大学 周学海 莫尔条纹 干涉条纹 超微粒 光电子 零位光栅 干涉系统 

分 类 号：O436.1[机械工程—光学工程]