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机构地区:[1]中国科学院北京真空物理实验室 [2]美国国家标准局表面科学部
出 处:《真空科学与技术学报》1989年第4期249-253,248,共6页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
摘 要:利用热脱附技术研究了80K下H_2O在多晶铜表面的吸附特性,结合程序升温脱附技术、高倍数光学显微镜、扫描电子显微镜和表面粗糙度因子对经三种不同方法(机械清洗、电抛光、化学清洗)处理的多晶铜表面进行了综合考察,得到了一些新的结果。H_2O adsorption on polycrystalline Cu at 80K have been studied using thermal desorption technique. The comparison with data of H_2O from single crysta Cu has been done. The surface of polycrystalline Cu cleaned by three different methods were characterized using SEM, SRF, OM and TDS. Some new results have been obtained.
关 键 词:热脱附 H2O 铜表 程序升温脱附 机械清洗 光学显微镜 化学清洗 扫描电子显微镜 表面粗糙度 综合考察
分 类 号:TB7-55[一般工业技术—真空技术]
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