纳米刻蚀术产生任意图案  

出　　处：《激光与光电子学进展》2009年第4期9-9,共1页Laser & Optoelectronics Progress

摘　　要：美国普林斯顿大学的研究人员研制出了一种直接将纳米图案刻蚀在衬底上的并行工艺。他们用一台激光器来捕获微透镜阵列，用另一台激光器以均匀尺寸和15nm的相对定位精度来制造100nm的结构。该方法能制造任意的纳米图案。

关 键 词：纳米图案 纳米刻蚀 普林斯顿大学 微透镜阵列 并行工艺 研究人员 定位精度 激光器 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学] TB383[一般工业技术—材料科学与工程]