Nd:Zn:LiNbO_3晶体的生长及抗光伤性能  

Growth and Optical-damage-resistance of Nd:Zn:LiNbO_3 Crystal

作　　者：范茹[1] 徐良瑛[1] 范立群 肖兵[1] 束碧云[1] 孙真荣[3] 

机构地区：[1]中国科学院上海硅酸盐研究所,上海200050 [2]上海庆华非金属材料有限公司,上海200245 [3]华东师范大学物理系国家教委华东师范大学量子光学开放实验室,上海200062

出　　处：《无机材料学报》1998年第2期157-161,共5页Journal of Inorganic Materials

摘　　要：以熔体提拉法生长了Nd：Zn：LiNbO3晶体，研究了最佳生长条件．对晶体的光学均匀性参数一双折射梯度及消光比做了测试．研究了晶体的光致双折射变化及其红外透射谱，证明它有很好的抗光伤性能．The Nd.Zn:LiNbO3 crystal was grewn under the best technique with czochralski method. Its direfractive gradient and the extinction rate were measured. The photo induced refractive change and the infrared transmission spectrum show that the crystal has good optical-damage-resistant.

关 键 词：LINBO3 晶体生长 提拉法 激光晶体 掺钕 掺锌 

分 类 号：O782.5[理学—晶体学] TN244.05[电子电信—物理电子学]