氮化硅陶瓷的研究进展  

Research progress of silicon nitride ceramic

作　　者：王正军[1] 

机构地区：[1]宿迁学院江苏宿迁,223800

出　　处：《材料科学与工艺》2009年第2期155-158,共4页Materials Science and Technology

基　　金：江苏省2008年度高校青蓝工程资助项目;国家科技攻关计划(2003DFBA0010)资助项目

摘　　要：氮化硅陶瓷是一种有广阔发展前景的高温高强度结构陶瓷.其具有高性能(如强度高、抗热震稳定性好、疲劳韧性高、室温抗弯强度高、耐磨、抗氧化、耐腐蚀性好等).已广泛应用于各行各业.氮化硅的制备方法主要有反应烧结法(RS)、热压烧结法(HPS)、常压烧结法(PLS)和气压烧结法(GPS)等.目前存在的主要问题是氮化硅陶瓷产品韧性低、成本较高.今后应改善制粉、成型和烧结工艺及氮化硅与碳化硅的复合化,研制出更加优良的氮化硅陶瓷.Silicon nitride ceramic is widely used for its properties of high strength, thermal shock resistance, fracture toughness, high bending strength at room temperature, wear resistance, oxidation resistance, corrosion resistance, etc. The popular preparation methods of silicon nitride ceramic are reactive sintering （ RS）, hot pressing sintering （HPS）, pressureless sintering （HPS） and gas pressing sintering （GPS）. To solve the probelems of low ductility and high cost of nitride ceramic products, powder manufacturing, confectioning, sintering technique, should be improved silicon nitride and silicon carbide should be synthesized to obtain the silicon nitride with high performance.

关 键 词：氮化硅 陶瓷 反应烧结法 热压烧结法 常压烧结法 气压烧结法 进展 

分 类 号：TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]