波前工程与光学超分辨  

Wavefront Engineering and Optical Super Resolution

作　　者：韩安云[1] 

机构地区：[1]电子工业部第十三研究所

出　　处：《半导体情报》1998年第3期1-17,共17页Semiconductor Information

摘　　要：对光学曝光技术的主要进展、波前工程概念和实现光学超分辨的基本途径等进行了论述。This paper introduces the recent progress of optical lithography,including the concept of wavefront engineering.Some fundamental ways for optical super resolution are discussed.

关 键 词：光刻 波前工程 光学超分辨 光学曝光技术 IC 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]