计算机自动控制的热壁低压 MOCVD 系统的建立及其应用  

A Computer Controlled Hot Wall Low Pressure MOCVD System and Its Application

作　　者：孙一军[1] 张志峰[1] 张良莹[1] 姚熹[1] 

机构地区：[1]西安交通大学精细功能电子材料与器件国家专业实验室

出　　处：《仪器仪表学报》1998年第1期45-49,66,共6页Chinese Journal of Scientific Instrument

基　　金：博士基金

摘　　要：本文根据金属有机物化学气相沉积（ＭＯＣＶＤ）系统的原理和特点，建立了计算机自动控制的热壁低压ＭＯＣＶＤ系统。我们首次采用热壁低压ＭＯＣＶＤ方法在制备高质量薄膜的同时，制备出了纳米微粉。According to the principles and characteristics of Metal Organic chemical vapor Deposition (MOCVD) a computer controlled hot wall low pressure MOCVD system was established.High quality thin films and nanosized powders were prepared simultaneously.

关 键 词：自动控制 MOCVD 热壁 低热 纳米微粉 薄膜 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TP273[理学—物理]