磁光盘抗腐蚀研究进展  

作　　者：熊锐[1] 李佐宜[1] 杨晓非 

机构地区：[1]华中理工大学固体电子学系,武汉430074

出　　处：《材料保护》1998年第6期22-24,共3页Materials Protection

摘　　要：介绍了国内外磁光盘抗腐蚀研究的进展，比较了目前常用的几种保护材料的基本特性，分析了对磁光盘进行优化设计的关键技术；在分析了现有磁光保护层材料的不足的基础上，预测了磁光盘保护材料研究发展的未来趋势。

关 键 词：磁光盘 抗腐蚀 优化设计 腐蚀 

分 类 号：TP333.41[自动化与计算机技术—计算机系统结构] TQ587.2[自动化与计算机技术—计算机科学与技术]