熊锐

作品数：20被引量：22H指数：3
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供职机构：华中理工大学电子科学与技术系更多>>
发文主题：磁光盘磁光记录磁光磁控溅射半导体器件更多>>
发文领域：化学工程自动化与计算机技术理学一般工业技术更多>>
发文期刊：《功能材料》《无机材料学报》《磁性材料及器件》《压电与声光》更多>>
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光调制直接重写磁光多层膜的制备及其性能研究被引量：1
《信息记录材料》2000年第1期21-24,共4页王可 李佐宜 胡作启 林更琪 熊锐 杨晓非 李震 王翔 易开军 朱全庆 胡煜 
本文研究了光调制直接重写磁光多层膜的制备及其磁与磁光特性。成功研制了满足光调制直接重写要求的不同居里温度的磁光存储介质。
关键词：光调制 直接重写 磁光多层膜 制备 OM 性能 
交换耦合双层膜NiO/Ni_(81)Fe_(19)的基片温度效应研究被引量：1
《无机材料学报》1999年第6期933-937,共5页邱进军 李佐宜 郑远开 李震 林更琪 熊锐 胡作启 卢志红 
国家教委部门开放研究实验室资助!"上海交通大学薄膜与微细技术实验室"
用射频磁控溅射方法在不同基片温度下玻璃基片上分别制备NiO单层膜、NiFe单层膜和NiO／NiFe双层膜，研究了不同基片温度对膜的磁性能的影响．用振动样品磁强计（VSM）分析了膜的磁特性，结果表明：基片温度260℃时淀积的NiFe膜矫顽力Hc...
关键词：基片温度 交换耦合 铁磁材料 氧化镍 铁化镍 
磁光盘静态特性参数的计算机辅助测试
《电子计算机与外部设备》1999年第4期8-11,共4页杨晓非 易开军 熊锐 谭立国 李佐宜 
文中指出了这种辅助测试的基础，介绍了该测试的条件和目的，论述了系统的硬件设计和软件设计。
关键词：磁光盘 磁光存储器 特性参数 计算机辅助测试 
层状钙钛矿铁电薄膜的结构及性能研究被引量：1
《压电与声光》1999年第1期59-63,共5页卢德新 熊锐 刘卫忠 徐则川 
华中理工大学青年基金
介绍了ＳｒＢｉ２Ｔａ２Ｏ９系列层状钙钛矿铁电薄膜的结构、性能、制备方法以及研究进展。
关键词：层状钙钛矿 铁电薄膜 结构 性能 
磁光直接重写技术原理分析被引量：1
《磁记录材料》1998年第4期18-22,共5页易开军 李佐宜 熊锐 胡作启 
讨论了磁光记录直接重写技术的两种主要机理，即磁场调制直接重写和光强调制直接重写，分析了它闪的优缺点。并对多层膜交换耦合原理及其在光强调制直接重写中各层的作用进行了详细讨论。光强调制技术具有更多方面的优越性，它将是未来...
关键词：磁光 数据传输率 直接重写技术 磁光存储 
铋钼单晶的制备和输运性质的研究被引量：1
《华中理工大学学报》1998年第10期68-69,75,共3页卢德新 熊锐 杨晓菲 徐则川 
华中理工大学青年基金资助项目
以高纯度的Ｂｉ２Ｏ３和ＭｏＯ３为原料，采用电化学方法制备了高质量紫红色Ｂｉ－Ｍｏ－Ｏ单晶，并研究了其输运性质．发现Ｂｉ－Ｍｏ－Ｏ单晶为半导体材料，其电阻随温度的变化可用公式Ｒ＝Ｒ０ｅｘｐ［Ｅａ／（２ｋＢＴ）］来描述；...
关键词：铋钼青铜 电化学 非线性输运 单晶 
NiO/NiFe双层膜的制备及其交换耦合作用研究被引量：1
《功能材料与器件学报》1998年第4期268-272,共5页卢志红 邱进军 荀坤 吴丹丹 姚新华 熊锐 周健 李佐宜 沈德芳 
上海市应用材料研究与发展基金
用直流磁控反应溅射制备ＮｉＯ／ＮｉＦｅ双层膜。在保持ＮｉＦｅ层的厚度２０ｎｍ不变的条件下，发现尽管没有用外加磁场引导单向各向异性，由于底盘旋转等因素的影响，ＮｉＯ（７０ｎｍ）／ＮｉＦｅ（２０ｎｍ）双层结构仍显示较好的...
关键词：单向各向异性 交换耦合场 双层膜 薄膜 
非晶 SmDyFeCoTi 薄膜的磁和磁光特性
《磁性材料及器件》1998年第4期28-31,共4页胡作启 李佐宜 熊锐 杨晓非 胡用时 林更琪 
用射频磁控溅射法制备了一系列的（ＳｍＤｙＦｅＣｏ）１－ｘＴｉｘ薄膜，研究了Ｔｉ对非晶ＳｍＤｙＦｅＣｏ磁光薄膜的磁、磁光特性及其热稳定性的影响。结果表明，少量的Ｔｉ原子掺杂对非晶ＳｍＤｙＦｅＣｏ薄膜的磁和磁光特性影响小...
关键词：薄膜 磁光特性 热稳定性 非晶稀土 RE-TM LRE-TM 
静态磁光薄膜表面温度场的有限元法分析
《磁性材料及器件》1998年第3期12-15,共4页杨晓非 李佐宜 熊锐 胡作启 彭子龙 
武汉市晨光计划资助
建立了磁光薄膜在脉冲激光作用下的传热模型，利用有限元法对磁光薄膜表面的温度场进行了模拟计算，讨论了磁光薄膜在不同环境温度下的升温特性，这些结果可以用于对磁光薄膜宽温化、表面温度特性、磁光记录畴尺寸和表面形貌等的研究。
关键词：有限单元法 磁光存储 磁记录 瞬态温度场 
磁光盘抗腐蚀研究进展
《材料保护》1998年第6期22-24,共3页熊锐 李佐宜 杨晓非 
介绍了国内外磁光盘抗腐蚀研究的进展，比较了目前常用的几种保护材料的基本特性，分析了对磁光盘进行优化设计的关键技术；在分析了现有磁光保护层材料的不足的基础上，预测了磁光盘保护材料研究发展的未来趋势。
关键词：磁光盘 抗腐蚀 优化设计 腐蚀 
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