磁光直接重写技术原理分析  

作　　者：易开军[1] 李佐宜[1] 熊锐[1] 胡作启[1] 

机构地区：[1]华中理工大学电子科学与技术系

出　　处：《磁记录材料》1998年第4期18-22,共5页Magnetic Recording Materiais

摘　　要：讨论了磁光记录直接重写技术的两种主要机理，即磁场调制直接重写和光强调制直接重写，分析了它闪的优缺点。并对多层膜交换耦合原理及其在光强调制直接重写中各层的作用进行了详细讨论。光强调制技术具有更多方面的优越性，它将是未来提高磁光数据传输率的主要研究方向。

关 键 词：磁光 数据传输率 直接重写技术 磁光存储 

分 类 号：TP333.4[自动化与计算机技术—计算机系统结构]